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涂布方式：旋转涂布（Spin Coating），支持正胶、负胶及BARC（底部抗反射涂层）膜厚范围：500Å-10μm，涂胶均匀性±3%（片内，8英寸晶圆）边缘处理：EBR（Edge Bead Remov···

涂布方式：旋转涂布（Spin Coating），支持正胶、负胶及BARC（底部抗反射涂层）膜厚均匀性：±10nm（3σ，300mm晶圆，光刻胶厚度1μm）涂布速率：500-6000 rpm可调，加速度···

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